Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика

Array
(
    [SESS_AUTH] => Array
        (
            [POLICY] => Array
                (
                    [SESSION_TIMEOUT] => 24
                    [SESSION_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [MAX_STORE_NUM] => 10
                    [STORE_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [STORE_TIMEOUT] => 525600
                    [CHECKWORD_TIMEOUT] => 525600
                    [PASSWORD_LENGTH] => 6
                    [PASSWORD_UPPERCASE] => N
                    [PASSWORD_LOWERCASE] => N
                    [PASSWORD_DIGITS] => N
                    [PASSWORD_PUNCTUATION] => N
                    [LOGIN_ATTEMPTS] => 0
                    [PASSWORD_REQUIREMENTS] => Пароль должен быть не менее 6 символов длиной.
                )

        )

    [SESS_IP] => 3.230.1.23
    [SESS_TIME] => 1711650012
    [BX_SESSION_SIGN] => 9b3eeb12a31176bf2731c6c072271eb6
    [fixed_session_id] => 4b284ac7cb0b78f0e4f5948f1c1012cc
    [UNIQUE_KEY] => be4c87bd7d26743583c41b2af4d0ea25
    [BX_LOGIN_NEED_CAPTCHA_LOGIN] => Array
        (
            [LOGIN] => 
            [POLICY_ATTEMPTS] => 0
        )

)

Поиск по журналу

Журнал структурной химии

2012 год, номер 4

СТРУКТУРА ПЛЕНОК HfO2 и ДВОЙНЫХ ОКСИДОВ НА ЕГО ОСНОВЕ

Т. П. Смирнова1, Л. В. Яковкина1, В. О. Борисов1, В. Н. Кичай1, В. В. Каичев2, В. В. Кривенцов2
1 Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН
2 Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН
yakov@niic.nsc.ru
Ключевые слова: диоксид гафния, бинарные растворы, ?high-k?-диэлектрики
Страницы: 718-724

Аннотация

Проведен анализ химического состава и структуры пленок HfO2 и двойных оксидов, формирующихся при их легировании алюминием и скандием. Показано, что легирование HfO2 алюминием приводит к аморфизации пленок: при концентрации Al больше 30 ат.% пленка становится аморфной. Легирование HfO2 скандием модифицирует моноклинную структуру и в области концентраций Sc от ~9 до ~14 ат.% Sc в неравновесных условиях CVD процесса при 600 °C формируется пленка твердого раствора орторомбической структуры.