Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика

Array
(
    [SESS_AUTH] => Array
        (
            [POLICY] => Array
                (
                    [SESSION_TIMEOUT] => 24
                    [SESSION_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [MAX_STORE_NUM] => 10
                    [STORE_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [STORE_TIMEOUT] => 525600
                    [CHECKWORD_TIMEOUT] => 525600
                    [PASSWORD_LENGTH] => 6
                    [PASSWORD_UPPERCASE] => N
                    [PASSWORD_LOWERCASE] => N
                    [PASSWORD_DIGITS] => N
                    [PASSWORD_PUNCTUATION] => N
                    [LOGIN_ATTEMPTS] => 0
                    [PASSWORD_REQUIREMENTS] => Пароль должен быть не менее 6 символов длиной.
                )

        )

    [SESS_IP] => 34.201.37.128
    [SESS_TIME] => 1711618064
    [BX_SESSION_SIGN] => 9b3eeb12a31176bf2731c6c072271eb6
    [fixed_session_id] => fe6b2f7f580adff05e75d6dcf8017150
    [UNIQUE_KEY] => 39f8ef936247ef0f964ad8490503e61e
    [BX_LOGIN_NEED_CAPTCHA_LOGIN] => Array
        (
            [LOGIN] => 
            [POLICY_ATTEMPTS] => 0
        )

)

Поиск по журналу

Теплофизика и аэромеханика

2016 год, номер 5

Исследование энергетических параметров плазменно-резистивной печи

А.С. Аньшаков1,2, А.И. Алиферов2, П.В. Домаров1,2
1Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск
Anshakov@itp.nsc.ru
2Новосибирский государственный технический университет, Новосибирск
Ключевые слова: плазменно-резистивная электропечь, плазмотрон, математическая модель, техногенные отходы, плазменный нагрев, нагрев сопротивлением
Страницы: 801-806

Аннотация

Исследованы электрические и тепловые характеристики плазменно-резистивной печи в зоне сушки при утилизации техногенных отходов. Получены зависимости выделения мощности в зоне сушки при различных удельных электросопротивлениях шихты. Показано, что введение дополнительного резистивного нагрева в зоне сушки снижает нагрузку на плазмотрон, увеличивая ресурс работы электродов.