Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика 

Array
(
    [SESS_AUTH] => Array
        (
            [POLICY] => Array
                (
                    [SESSION_TIMEOUT] => 24
                    [SESSION_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [MAX_STORE_NUM] => 10
                    [STORE_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [STORE_TIMEOUT] => 525600
                    [CHECKWORD_TIMEOUT] => 525600
                    [PASSWORD_LENGTH] => 6
                    [PASSWORD_UPPERCASE] => N
                    [PASSWORD_LOWERCASE] => N
                    [PASSWORD_DIGITS] => N
                    [PASSWORD_PUNCTUATION] => N
                    [LOGIN_ATTEMPTS] => 0
                    [PASSWORD_REQUIREMENTS] => Пароль должен быть не менее 6 символов длиной.
                )

        )

    [SESS_IP] => 18.116.85.72
    [SESS_TIME] => 1714073411
    [BX_SESSION_SIGN] => 9b3eeb12a31176bf2731c6c072271eb6
    [fixed_session_id] => 49e04e54d88e2d4d963bcd3964d2d3f2
    [UNIQUE_KEY] => e5f371d4f58790bd77004f07fbe44eb8
    [BX_LOGIN_NEED_CAPTCHA_LOGIN] => Array
        (
            [LOGIN] => 
            [POLICY_ATTEMPTS] => 0
        )

)

Поиск по журналу

Оптика атмосферы и океана

2020 год, номер 8

Получение высококонтрастных "ковров Талбота" при использовании амплитудно-фазовой мезоволновой маски

Ю.Э. ГЕЙНЦ1, А.А. ЗЕМЛЯНОВ1, Е.К. ПАНИНА1, И.В. МИНИН2,3, О.В. МИНИН2,3
1Институт оптики атмосферы им. В.Е. Зуева СО РАН, Томск, Россия
ygeints@iao.ru
2Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, Россия
prof.minin@gmail.com
3Сибирский государственный университет геосистем и технологий, Новосибирск, Россия
oleg.minin@ngs.ru
Ключевые слова: эффект Талбота, фотолитография, дифракционные маски, Talbot effect, photolithography, diffraction mask
Страницы: 656-659

Аннотация

С помощью численного моделирования методом конечных элементов исследована пространственная структура поля оптической волны в ближней зоне составной амплитудно-фазовой дифракционной решетки с периодом штрихов порядка длины волны падающего излучения. Показано, что применительно к технологии оптической Талбот-литографии такая комбинированная бинарная маска обеспечивает многократное оптическое повышение контрастности интегрального «ковра Талбота» по сравнению с чистыми амплитудными и фазовыми масками. Проанализированы физические причины этого эффекта и установлена определяющая роль резонансов Ми, возбуждающихся внутри диэлектрических выступов фазовой маски, что может дать высокое пространственное разрешение (до четверти оптической волны) и максимальный оптический контраст (до 24 дБ) интегральных самоизображений Талбота.

DOI: 10.15372/AOO20200810
Скачать pdf-версию статьи