Осаждение оксидных наноструктур наносекундной лазерной абляцией кремния в кислородсодержащем фоновом газе
А.А. Родионов1,2, С.В. Старинский1,2, Ю.Г. Шухов1, А.В. Булгаков1,3
1Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
alderad@mail.ru
2Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия
starikhbz@mail.ru
3Институт физики Академии наук Чехии, Прага, Чехия
bulgakov@itp.nsc.ru
Ключевые слова: импульсное лазерное осаждение, тонкие пленки, нестехиометрический оксид кремния, лазерная абляция в фоновом газе
Страницы: 585-590
Аннотация
Методом наносекундной лазерной абляции в вакууме и фоновом газе синтезированы тонкие пленки оксида кремния различной стехиометрии. С помощью трех различных методик определена локальная степень окисления образцов. Установлено, что по мере увеличения расстояния до оси лазерного факела имеет место монотонное повышение содержания кислорода в пленках, обусловленное неоднородностью его окисления. Обнаружено значительное повышение аблируемой массы при понижении давления фоновой смеси с 60 до 20 Пa, что связано с увеличением обратного потока вещества на мишень. Проведено сравнение эффективности окисления пленок в случае нагрева на этапах синтеза и отжига уже сформированной пленки. Продемонстрировано, что составом пленок можно управлять, изменяя давление инертного газа при постоянном давлении химически активной компоненты в фоновой смеси
|
